同位素特种气体的应用

 同位素特种气体的应用

 在半导体工业中，高丰度的72Ge越来越受到重视，其以四氟化锗气体形式应用于预非晶化注入工艺，以防止硅晶片注入掺杂剂通道，从而优化器件的性能和速度。

此外，在硼11注入之前，将四氟化锗气体注入，通过控制72Ge/74Ge的比值，可以在表面附近形成合适厚度的非晶态薄层，从而消除沟道效应，增强p型金属氧化物半导体场效应晶体管(pMOSFET)的器件性能。

当今，世界上生产锗同位素的厂商集中在欧美、俄罗斯等地。如美国的同位素发展中心(NIDC)在2006年就能生产超高纯度四氟化锗，并能够人工制备放射性68Ge，且能够将技术转让给企业进行工业生产；欧洲的Urenco公司也进行了锗同位素生产；俄罗斯气体离心法分离同位素方面经验丰富，可以生产多种稳定同位素，其中俄罗斯同位素股份公司(JSC Isotope)可以生产72Ge、74Ge、76Ge等多种锗同位素产品。

在集成电路中，硼作为一种重要的掺杂原子需要被注入硅中以改变其表面电导率或形成pn结。硼元素有两种稳定同位素，硼-10和硼-11，丰度分别为19.78％和80.22％。经研究表明，热中子等高能粒子与集成电路中的硼-10同位素能发生反应从而导致集成电路芯片出现故障。集成电路中的硼-10同位素在中子的作用下会裂变为金属锂和一个高能α粒子，这是引发单粒子效应的重要原因之一。